Multiplexado holográfico angular y peristrófico

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Title: Multiplexado holográfico angular y peristrófico
Other Titles: Angular and peristrophic holographic multiplexing
Authors: Fernandez-Varo, Helena | García Llopis, Celia | Ortuño, Manuel | Gallego, Sergi | Beléndez, Augusto | Pascual, Inmaculada
Research Group/s: Holografía y Procesado Óptico
Center, Department or Service: Universidad de Alicante. Departamento de Óptica, Farmacología y Anatomía | Universidad de Alicante. Departamento de Física, Ingeniería de Sistemas y Teoría de la Señal
Keywords: Holografía | Materiales de registro holográfico | Multiplexado holográfico | Memorias holográficas | Holography | Holographic recording materials | Holographic multiplexing
Knowledge Area: Óptica | Física Aplicada
Date Created: 2006
Issue Date: 2007
Publisher: Sociedad Española de Óptica
Citation: FERNÁNDEZ VARÓ, Elena, et al. "Multiplexado holográfico angular y peristrófico". Óptica Pura y Aplicada. Vol. 40, n. 1 (2007). ISSN 0030-3917, pp. 31-35
Abstract: Los fotopolímeros de PVA-acrilamida son materiales que se emplean para el almacenamiento de redes holográficas. En este trabajo se van a combinar dos métodos de multiplexado, el multiplexado peristrófico y el multiplexado angular para almacenar 60 hologramas. Además, se va a emplear un esquema de tiempos de registro (exposure schedule method, ESM) para optimizar las capacidades del material y poder almacenar los hologramas con rendimientos en difracción altos y lo más uniformes posibles. Este ESM también aprovecha al máximo el rango dinámico del material, obteniéndose valores de M# = 9 para placas de 800 μm. | The PVA/Acrylamide photopolymers are materials that are used for holographic grating storage. In this work, a combination of two multiplexing methods - peristrophic and angular multiplexing - is used to record 60 holograms. An exposure schedule method will be used to optimize the capability of the photopolymerizable holographic material and obtain holograms with a higher, more uniform diffraction efficiency. In addition, thanks to this exposure schedule method, the entire dynamic range of the material will be exploited, obtaining values of approximately M# = 9 in layers about 800 μm thick.
Sponsor: Este trabajo está financiado por el "Ministerio de Educación y Ciencia" mediante los proyectos FIS2005-05881-C02-01, FIS2005-05881-C02-02 y por la “Generalitat Valenciana” mediante los proyectos ACOMP 06/009, ACOMP 06/007 y GV06/172.
URI: http://hdl.handle.net/10045/9229
ISSN: 0030-3917
Language: spa
Type: info:eu-repo/semantics/article
Rights: © Sociedad Española de Óptica. La publicación original se encuentra en: http://www.sedoptica.es
Peer Review: si
Appears in Collections:INV - GHPO - Artículos de Revistas

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