Formación de un holograma en un fotopolímero basado en PVA/Acrilamida
Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:
http://hdl.handle.net/10045/9228
Título: | Formación de un holograma en un fotopolímero basado en PVA/Acrilamida |
---|---|
Título alternativo: | Hologram formation in PVA/Acrylamide based photopolymer |
Autor/es: | Gallego, Sergi | Ortuño, Manuel | Márquez, Andrés | Neipp, Cristian | García Llopis, Celia | Beléndez, Augusto | Pascual, Inmaculada |
Grupo/s de investigación o GITE: | Holografía y Procesado Óptico |
Centro, Departamento o Servicio: | Universidad de Alicante. Departamento de Física, Ingeniería de Sistemas y Teoría de la Señal | Universidad de Alicante. Departamento de Óptica, Farmacología y Anatomía |
Palabras clave: | Holografía | Materiales de registro holográfico | Fotopolímeros | Holography | Holography recording materials | Photopolymers |
Área/s de conocimiento: | Óptica | Física Aplicada |
Fecha de creación: | 12-mar-2004 |
Fecha de publicación: | 2004 |
Editor: | Sociedad Española de Óptica |
Cita bibliográfica: | GALLEGO RICO, Sergi, et al. "Formación de un holograma en un fotopolímero basado en PVA/Acrilamida". Óptica Pura y Aplicada. Vol. 37, n. 1 (2004). ISSN 0030-3917, pp. 61-66 |
Resumen: | El interés por modelizar el comportamiento de los fotopolímeros se ha intensificado estos últimos añosdebido a su alta capacidad de almacenamiento de la modelización de la formación de una red de difracción holográfica en fotopolímeros. Se aplica en el estudio del comportamiento de un fotopolímero basado en PVA/acrilamida sin y con NN’,methylene-bis-acrylamide (BMAA) como entrecruzante. Por último también se valora la presencia de monómero residual predicha en el modelo. | The interest of the study of the behavior of photopolymers have a great deal in the last years for their capacity to store high density of information. The research in new models in order to explain the recording of a diffraction grating in photopolymers have good advances recently. In this work a new simple model to understand this process is proposed. This model is applied to analyze a PVA/acrylamide photopolymer and some important aspects as the presence of a crosslinker monomer, NN’,methylene-bis-acrylamide (BMA)and the existence of residual monomer are studied. |
Patrocinador/es: | Este trabajo ha sido posible gracias a la financiación del Ministerio de Ciencia y Tecnología, CICYT, proyecto MAT2000-1361-C04-04 y la Generalitat Valenciana, proyecto GV01-130. |
URI: | http://hdl.handle.net/10045/9228 |
ISSN: | 0030-3917 |
Idioma: | spa |
Tipo: | info:eu-repo/semantics/article |
Derechos: | © Sociedad Española de Óptica. La publicación original se encuentra en: http://www.sedoptica.es |
Revisión científica: | si |
Aparece en las colecciones: | INV - GHPO - Artículos de Revistas |
Archivos en este ítem:
Archivo | Descripción | Tamaño | Formato | |
---|---|---|---|---|
OPA_v37_n1_p61_2004.pdf | 285,71 kB | Adobe PDF | Abrir Vista previa | |
Todos los documentos en RUA están protegidos por derechos de autor. Algunos derechos reservados.