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Acceso abiertoRRDO_v1_p177_2001.pdf.jpg2001PVA/acrylamide photopolymers as holographic recording material at short wavelengthsPascual, Inmaculada; García Llopis, Celia; Beléndez, Augusto; Fimia Gil, Antonio
Acceso abiertoOPTOEL_07_Bilbao_p307_2007.pdf.jpgjul-2007Obtención y análisis de lentes holográficas en fotopolímerosGarcía Llopis, Celia; Rodríguez, Jesús D.; Fernandez-Varo, Helena; Camps, Vicente J.; Pascual, Inmaculada
Acceso abierto6thANQUE_Tenerife_p244_2006.pdf.jpgdic-2006New photopolymers with low level of toxicityOrtuño, Manuel; Márquez, Andrés; Gallego, Sergi; Fernandez-Varo, Helena; Neipp, Cristian; Beléndez, Augusto; Pascual, Inmaculada
Acceso abiertoHolography2005_Varna_p50_2005.pdf.jpg21-may-2005High thickness acrylamide photopolymer for peristrophic multiplexingOrtuño, Manuel; Fernandez-Varo, Helena; Márquez, Andrés; Gallego, Sergi; Neipp, Cristian; Pascual, Inmaculada
Acceso abiertoHolography2005_Varna_p28_2005.pdf.jpg21-may-20053-D behaviour of photopolymers as holographic recording materialGallego, Sergi; Ortuño, Manuel; Neipp, Cristian; Márquez, Andrés; Kelly, John V.; Sheridan, John T.; Beléndez, Augusto; Pascual, Inmaculada
Acceso abiertoHolography2005_Varna_p63_2005.pdf.jpg21-may-2005Analysis of amplitude and phase coupling in volume holographyMárquez, Andrés; Neipp, Cristian; Yaroslavsky, Leonid P.; Gallego, Sergi; Ortuño, Manuel; Beléndez, Augusto; Pascual, Inmaculada
Acceso abierto6RNO_Medina_p435_2000.pdf.jpgsep-2000Respuesta de un fotopolímero de polivinilalcohol-acrilamida a pulsos de nanosegundoAmat Guerri, Francisco; Costela González, Ángel; Fimia Gil, Antonio; García Llopis, Celia; García-Moreno Gonzalo, Inmaculada; Pascual, Inmaculada; Sastre Muñoz, Roberto
Acceso abierto6RNO_Medina_p445_2000.pdf.jpgsep-2000Estudio de un fotopolímero basado en PVA-acrilamidas como material de registro holográficoAlemañ Berenguer, Rafael; Fimia Gil, Antonio; García Llopis, Celia; Mateos Álvarez, Felipe; Pascual, Inmaculada
Acceso abierto6RNO_Medina_p443_2000.pdf.jpgsep-2000Hologramas por transmisión y reflexión en emulsiones BB-640: optimización de procesados de rehalogenación sin fijadoNeipp, Cristian; Beléndez, Augusto; Pascual, Inmaculada
Acceso abierto6RNO_Medina_p431_2000.pdf.jpg19-sep-2000Comportamiento termomecánico en alto vacío del PVA como material para holografíaFimia Gil, Antonio; Méndez Penín, María Jesús; Ulibarrena Estévez, Manuel; Mallavia Marín, Ricardo; Beléndez, Tarsicio; Cabeza, Isabel; Rodríguez, Fernando

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